Traditionelt har bly været det foretrukne valg for strålingsbeskyttelse.Wolfram afskærmning tæppe har evnen til at feltet-fit, der giver for dæmpning af stråling i alt fra 5 til 10 person-rem / år, end, som den tilsvarende vægt af traditionelle bly tæppe. Og da wolfram-legering er tyndere og vejer så meget som 50 procent mindre end bly, kan det være mere tilgivende, når arbejdstagere varetager de fysiske aktiviteter, der kræves i et atomkraftværk.

Med den samme tæthed, wolfram tæppe har tilsvarende tykkelse end bly tæpper. Og yderst fleksibelt og kan være støbt eller formet til enhver form. Det ofte konkurrencedygtige priser til at lede alternativer. Det vil ingeniør og fabrikere specialiserede profiler, plader og bånd, herunder aflåselige "High Rad" applikationer.

Her, den ovenfor beskrevne fremgangsmåde har en virkning at forhindre direkte omsætning af Ti og WF.sub.6 når et adhæsionsfremmende lag er en lamineret lag af Ti / TiN film og en wolfram afskærmning tæppe er dannet på klæbelaget. En direkte omsætning af Ti og WF.sub.6 vil danne et fast substrat, som vil udvise et volumen ekspansion og bliver en årsag til peeling-off af et lag.

Når en klæbelag til dannelse af en wolfram afskærmning tæppe er dannet ved forstøvning er substratet ofte fastgjort på en mount anvendelse af en holder eller kroge. På portioner under disse kroge, en SiO.sub.2 film, som er en inter-lag isolerende lag udsættes, fordi næsten ingen film dannes under krogene ved forstøvning. Når en wolfram afskærmning tæppe vokser på den eksponerede SiO.sub.2 er wolfram afskærmning tæppe let skrælles grund af svag adhæsion anti partikler produceres.

Beskrivelse af Wolfram Blanket

Normalt som en prop til at forbinde ledninger lag af multiple lag ledninger, wolfram, som er et ildfast metal er benyttet. Men wolfram legering har en svag vedhæftning med SiO.sub.2. Således til dannelse wolfram tæppe på en inter-lags isolerende film dannet af SiO.sub.2, lamineret klæbelag af titanium film dannes først og derefter wolfram tæppe er dannet derpå.

Wolfram Blanket Deposition

Wolfram tæppe deposition apparat omfatter en reaktor hvis inderside er evakuerbar, et gasindløb organer til indføring af en reaktionsgas i reaktoren, mount organer til montering af en genstand substrat, der skal behandles, gennemtrængningsforhindrende organer til at forhindre gennemtrængning af gas, der er anbragt til dække en perifer del af en overflade af genstanden substrat, som skal behandles, og med en indvendig diameter mindre end en diameter af objektet substrat og en ydre perimeter større end den af objektet substrat, og et andet gasindløb organer til indføring af en gas til en plads på periferien af objektet substrat omfattet af gennemtrængningsforhindrende middel. Vækst af tæppe wolfram på en perifer SiO.sub.2 del af substratet forhindres, og dermed fremstilling af partikler forårsaget af skrælning-off af wolfram tæppe forhindres.

For at forhindre en vækst af wolfram tæppe på den eksponerede SiO.sub.2 film, er den eksponerede SiO.sub.2 film omkring substratet dækket med en ring for at forhindre reaktion gas i at nå den blotlagte film af SiO.sub.2.
I den kendte teknik fremgangsmåde til dannelse af wolfram tæppe beskrevet ovenfor, når en gas med SiH.sub.4 eller SiH.sub.2 Cl.sub.2 tillades at strømme på en overflade af et substrat til dannelse derpå en tynd film af silicium er det ikke leveres på den del, der dækkes af en ring til at forhindre gennemtrængning af reaktionsgas. Således er et lag af SiO.sub.2 eksponeret på en periferi af substratet.
I den næste proces at danne WSI film ved at tilvejebringe en strømning af WF.sub.6 gas, kan WF.sub.6 trænge ind i en del, hvor SiO.sub.2 film eksponeres på en periferi af substratet. I dette tilfælde, wolfram tæppe vokser direkte på SiO.sub.2 film, og resulterer i en produktion af partikler.

Hvis du har nogen interesse i wolfram afskærmning tæppe, er du velkommen til at kontakte os via e-mail: sales@chinatungsten.com sales@xiamentungsten.com eller telefon:86 592 5129696.